Solutions c茅ramiques pour l'industrie des semi-conducteurs

Plus de 120 ans d'exp茅rience dans la c茅ramique technique et de nombreuses ann茅es d'exp茅rience dans l'industrie des semi-conducteurs, combin茅s 脿 un vaste savoir-faire en mati猫re de mat茅riaux et de processus et 脿 des propri茅t茅s de produits exceptionnelles, font de nous l'un des principaux interlocuteurs lorsqu'il s'agit de composants c茅ramiques pour l'industrie des semi-conducteurs. D茅couvrez les avantages de notre portefeuille de c茅ramiques haute performance et profitez de notre comp茅tence en mati猫re de solutions pour un grand nombre de processus de fabrication dans l'industrie des semi-conducteurs.

Nous fabriquons nos composants et pi猫ces en c茅ramique en fonction des exigences individuelles de vos applications, afin que vous puissiez concevoir et entretenir vos processus de mani猫re flexible et fiable. Nous sommes pass茅s du statut de fabricant de composants c茅ramiques de haute qualit茅脿 celui de partenaire de d茅veloppement fiable, capable de traduire vos exigences individuelles en produits semi-conducteurs de pointe.

Que ce soit dans le traitement des wafers, la fabrication des semi-conducteurs ou la manipulation, nos composants en c茅ramique haute performance permettent d'obtenir des performances et une fiabilit茅 durables.

新天地集团 propose le mat茅riau c茅ramique adapt茅脿 presque toutes les exigences :

Al2O3 - puret茅 et rigidit茅茅lev茅es
AlN - conductivit茅 thermique et isolation 茅lectrique 茅lev茅es
SiSiC - faible dilatation thermique et densit茅
Si3N4 - haute r茅sistance 脿 la rupture et faible dilatation thermique.

Sur la base des exigences individuelles, nous pouvons recommander le choix optimal de mat茅riaux pour l'application du client. Nous am茅liorons continuellement les 茅tapes cl茅s de notre processus de fabrication tout en augmentant nos capacit茅s de production.

Advanced Ceramic Solutions for the Semiconductor Industry

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脡TAPES IMPORTANTES DU PROCESSUS	PARAM脠TRES TECHNIQUES	VALEURS/EXIGENCES R脡ALISABLES
Usinage dur - Fraisage	笔濒补苍茅颈迟茅, parall茅lisme, Ra	笔濒补苍茅颈迟茅 < 1 渭m Ra 鈮� 0,05 渭m
Meulage	笔濒补苍茅颈迟茅	5 渭m < 脴 200 mm / 10 渭m > 脴 200 mm
	笔补谤补濒濒茅濒颈蝉尘别	5 渭m < 脴 200 mm / 10 渭m > 脴 200 mm
	搁耻驳辞蝉颈迟茅	Ra de 0,15 渭m 脿 0,6 渭m
脡谤辞蝉颈辞苍	Positionnement sym茅trique	jusqu'脿 0,05 mm (positionnement de trous/rainures)
Rodage et polissage	笔濒补苍茅颈迟茅, parall茅lisme, rugosit茅	Ra de 0,06 渭m 脿 0,35 渭m 笔濒补苍茅颈迟茅 < 2 渭m 笔补谤补濒濒茅濒颈蝉尘别 < 2 渭m
Etat de surface	搁耻驳辞蝉颈迟茅	搁耻驳辞蝉颈迟茅 < 3,2 渭m Taille < 150 渭m
Mesure sp茅ciale	Inclinaison locale/plan茅it茅 locale	R茅solution de l'objectif 50 nm - 25 渭rad
Nettoyage et conditionnement	Degr茅 de puret茅	ISO 5 / salle blanche 100 / emballage en salle blanche (sur demande du client)